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Primo iDEA?雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕除膠一體機(jī)

直接聯(lián)系

中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司

上海

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中微公司

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Primo iDEA?雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕除膠一體機(jī)

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產(chǎn)品介紹

Primo iDEA?（即“雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕除膠一體機(jī)”）源于中微的一個(gè)新理念，即：將一個(gè)或兩個(gè)雙反應(yīng)臺(tái)D-RIE或AD-RIE工藝模塊、和一個(gè)遠(yuǎn)程等離子體源除膠器（DsA）反應(yīng)腔整合在同一個(gè)平臺(tái)上。中微的遠(yuǎn)程等離子體源除膠器采用了雙反應(yīng)臺(tái)腔體設(shè)計(jì)，頂置的遠(yuǎn)程等離子體源（RPS）產(chǎn)生的活性反應(yīng)物質(zhì)，被均勻地輸送到晶圓表面以移除光刻膠。這種方法能夠提高光刻膠移除效率，并降低等離子體直接接觸晶圓的機(jī)會(huì)。這對(duì)于一些客戶(hù)來(lái)說(shuō)尤為重要，其芯片器件對(duì)表面電荷極其敏感，存在等離子體誘發(fā)損傷（PID）的潛在風(fēng)險(xiǎn)。為了解決這方面的顧慮，客戶(hù)通常要付出巨大的人力和物力修改整合方案，或者為每個(gè)步驟（例如光刻膠移除）添置專(zhuān)用設(shè)備。擁有Primo iDEA整合系統(tǒng)后，客戶(hù)可以在同一個(gè)平臺(tái)上靈活地進(jìn)行芯片刻蝕和光刻膠移除，顯著減少設(shè)備占地面積，提高生產(chǎn)效率。Primo iDEA提供了具有成本優(yōu)勢(shì)的解決方案。

Primo iDEA?

為芯片刻蝕和光刻膠移除提供創(chuàng)新的整合解決方案

產(chǎn)品特點(diǎn)

遠(yuǎn)程等離子體源

高效率除膠

高效離子隔濾，以避免對(duì)器件造成等離子體誘發(fā)損傷

競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)

雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕與除膠整合一體機(jī)，顯著減小占地面積

使用Primo iDEA?系統(tǒng)設(shè)計(jì)以代替單獨(dú)的刻蝕和除膠系統(tǒng)，節(jié)省成本20%以上

產(chǎn)品咨詢(xún)

Primo iDEA?雙反應(yīng)臺(tái)刻蝕除膠一體機(jī)

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Primo iDEA?

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