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A4-SRM系列反射式膜厚測量儀可用于測量半導(dǎo)體鍍膜等需要在很小的面積上測量膜厚的場合。通常面積可小于50um或20um。半導(dǎo)體需要測量silicon nitride,photoresist, polysilicon,oxide等在硅上的膜厚或silicon nitride和oxide等多層膜的厚度。我公司針對這一需求,已經(jīng)推出多款滿足國內(nèi)半導(dǎo)體,半導(dǎo)體封裝,平板顯示等行業(yè)需求的小光斑顯微膜厚測量儀,并已在國內(nèi)多家半導(dǎo)體及相關(guān)廠商投入使用。我公司的小光斑顯微膜厚測量儀可以配200毫米(8英寸)和300毫米(12英寸)的工作臺和CCD攝像頭,配有多個物鏡,可使用放大倍數(shù)較小的物鏡進行目標查找,然后再使用較大物鏡進行測量。(如圖)