粉體行業在線展覽
CAP-H1
面議
CAP-H1
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名稱 | CMP 化學機械拋光機 |
型號 | CAP-H1 |
作業模式 | 干進濕出 |
適用工藝 | SiC 襯底拋光 |
對應產品 | 4~8inch |
CMP table | 1 pcs |
Contour head | 分區壓力控制 |
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
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等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
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定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037