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SiC襯底化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)

CAP-H2

直接聯(lián)系

江蘇芯創(chuàng)微半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

江蘇

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CAP-H2

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產(chǎn)品介紹

名稱	CMP 化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
型號(hào)	CAP-H2
作業(yè)模式	干進(jìn)干出
適用工藝	SiC 襯底拋光
對(duì)應(yīng)產(chǎn)品	4~8inch
CMP table	2 pcs
Contour head	分區(qū)壓力控制

公司成立于2024年，是一家集機(jī)械設(shè)計(jì)、電氣研制、軟件開發(fā)、精密制造于一體的裝備制造商。創(chuàng)生源制造基地位于江蘇.宿遷, 分別在無錫、宿遷、太原設(shè)立分公司及工程研發(fā)中心，先后獲得6項(xiàng)***、41項(xiàng)實(shí)用新型**、20項(xiàng)軟件著作權(quán)，同時(shí)公司通過了ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證、GJB9001C武器裝備質(zhì)量管理體系認(rèn)證、ISO14001環(huán)境管理體系認(rèn)證、ISO45001職業(yè)健康安全管理體系認(rèn)證，榮獲國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)、江蘇省民營(yíng)科技企業(yè)等榮譽(yù)稱號(hào)。

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CAP-H2

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