粉體行業(yè)在線展覽
12吋薄膜沉積設(shè)備
面議
盛吉盛
12吋薄膜沉積設(shè)備
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HDPCVD通過特殊的硬件和射頻系統(tǒng)設(shè)計,可以獲得比傳統(tǒng)PECVD高1至2個數(shù)量級的高密度等離子體,因其填充能力強、薄膜質(zhì)量好的特點廣泛應(yīng)用于淺槽隔離、介質(zhì)層填充、鈍化層填充等具有一定深寬比的結(jié)構(gòu)中。
Sharpla600 系列缺陷檢測設(shè)備
U380S 系列缺陷檢測設(shè)備
缺陷檢測設(shè)備 U315 系列
PVD-Auroflux6/8吋薄膜沉積設(shè)備
CVD-Quadiance6/8吋薄膜沉積設(shè)備
6/8吋薄膜沉積設(shè)備 CVD-Expediance
RTA-Brispark12吋快速熱處理設(shè)備
12吋快速熱處理設(shè)備 RTP-XPEED-IDP
12吋薄膜沉積設(shè)備
12吋薄膜沉積設(shè)備 PECVD-ZARVIS
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037