粉體行業在線展覽
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PNX332B
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PNX332B
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PNX332B 是全自動通用拋光型設備，不僅可以處理氧化層和金屬膜，而且可以去除晶圓表面損傷層。該機型搭載有8個拋光頭，3個拋光臺，同時可以對6片晶圓進行拋光，同時搭載3個拋光液料桶，分別給每個拋光臺提供拋光液，每個拋光臺可以根據客戶需求進行粗拋或者精拋，每個拋光臺都配有拋光液和純水的管路，可以自動切換純水或者拋光液。該機型在全球12寸硅片襯底的拋光占有率達到80%以上，今后也會將會在8寸碳化硅襯底的全自動拋光做出應有貢獻！
PNX332B 是全自動通用拋光型設備，不僅可以處理氧化層和金屬膜，而且可以去除晶圓表面損傷層。該機型搭載有8個拋光頭，3個拋光臺，同時可以對6片晶圓進行拋光，同時搭載3個拋光液料桶，分別給每個拋光臺提供拋光液，每個拋光臺可以根據客戶需求進行粗拋或者精拋，每個拋光臺都配有拋光液和純水的管路，可以自動切換純水或者拋光液。該機型在全球12寸硅片襯底的拋光占有率達到80%以上，今后也會將會在8寸碳化硅襯底的全自動拋光做出應有貢獻！
性能參數
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自動劃片機
FM-W-PDS
Gasboard-2060
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
