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該系統可以作為以下功能裝置：

1，研發級R&D鍍膜設備，性能優異

2，具備所有研發級別的鍍膜要求

3，高效的沉積速率，鍍膜時間快

4， 實驗室中培訓的**工具

主要的特點和先進的功能：

1， 臺式，小型，快速

2，全自動化程序控制

3，單靶或多靶聯合濺射鍍膜，多路氣體管路

4，共聚焦設計，靶槍尺寸：2英寸，3英寸，4英寸，襯底可做到200mm，旋轉1-20RPM，以及Load-lock配置

5，配置干泵+分子泵，可達高真空，適用高品質薄膜沉積。

6， 可做直流濺射，射頻濺射，100W射頻偏壓（用于襯底表面清洗）

性能價格比高！！