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標準型涂膠顯影機

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廣東大族半導體裝備科技有限公司

廣東

產品規格型號

參考報價：

面議

品牌：

大族半導體

型號：

標準型涂膠顯影機

關注度：

387

產品介紹

主要特點：

設備特點：

1、占地小、穩定性高、操作與維護方便

2、可廣泛用于硅，碳化硅，氮化鎵，砷化鎵，玻璃等材料的涂膠顯影工藝

3、可覆蓋0.35um以上工藝需求，滿足2~6寸晶圓需求，可涂覆3~20000CP光刻膠

4、控制精度高，實時控制解決方案，Ether CAT 通訊，高精度擺臂及傳輸機構

5、自主可控的技術方案，自主開發的軟件系統，充分滿足定制化要求

主要參數:

主要參數	片盒數量	2&3CS
	wafer 類型	圓片、方片
	wafer 尺寸（mm）	50-150
	產能（WPH）	110
	襯底材料	Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
	適用工藝	g-line、i- line、PI

設備特點：

1、占地小、穩定性高、操作與維護方便

2、可廣泛用于硅，碳化硅，氮化鎵，砷化鎵，玻璃等材料的涂膠顯影工藝

3、可覆蓋0.35um以上工藝需求，滿足2~6寸晶圓需求，可涂覆3~20000CP光刻膠

4、控制精度高，實時控制解決方案，Ether CAT 通訊，高精度擺臂及傳輸機構

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標準型涂膠顯影機

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