粉體行業在線展覽
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M82300-3/UM型PECVD鍍膜設備
直接聯系
中國電子科技集團公司第四十八研究所
湖南
面議
電子科技
M82300-3/UM型PECVD鍍膜設備
561
PECVD鍍膜設備即等離子體增強化學氣相淀積設備，是利用高頻電源輝光放電產生等離子體對化學氣相沉積過程施加影響的技術。
M82300-3/UM型五管PECVD設備既可用于淀積電池片正面氧化硅減反射膜，也可用于淀積電池片背面鈍化膜。
硅片尺寸可從166mm兼容到220mm;
單管載片量可到680片，雙舟設計；
輔助加熱技術，可大幅改善工藝均勻性；
具備背面氧化鋁工藝能力。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
