粉體行業(yè)在線展覽
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ASML 二手ArF光刻機XT
直接聯(lián)系
青島佳鼎半導體
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佳鼎半導體
ASML 二手ArF光刻機XT
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ASML Holding NV (ASML) 于2006年末推出了其**的 TWINSCAN 系統(tǒng)，這是一種先進的 193 納米 (nm) 曝光系統(tǒng)，具有成像、覆蓋和吞吐量改進的特點。TWINSCAN XT:1450 的目標是大批量制造，將干燥 ArF 擴展到亞 60 nm。客戶還可以使用它來支持使用雙圖案技術(shù)開發(fā) 32 納米節(jié)點工藝。
XT:1450 是先進的干式 ArF 批量生產(chǎn)系統(tǒng)。它提高了 IC 制造商的所有權(quán)價值，在批量制造條件下每小時可生產(chǎn) 143 片晶圓。新的 AERIAL-P 照明器支持高效偏振，加上增強的鏡頭像差控制和增強的疊加性能，使 XT:1450 能夠?qū)⒏?ArF 的極限擴展到 57 nm 的指定分辨率。
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定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
