粉體行業在線展覽
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TFC-6500B
直接聯系
碳方程半導體設備制造（山西）有限公司
山西
面議
碳方程
TFC-6500B
910
TFC-6500B，微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備是***的 CVD 系統。針對用戶的具體要求設計和研制的一臺多用途、高穩定中等壓強微 波等離子體（MPCVD）綜合設備。
產品特性
* 高純高真空不銹鋼腔體(無硅污染 )
★ 可95%功率高效穩定運行
★可單次生產7*7 mm單晶毛坯21粒
★ 水冷卻腔體(無風冷噪音)
★ 可均勻生產2 inc多晶
★ 產品凈度等級可達VVS級
*生長機臺可自動調節范圍達15MM
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
