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產(chǎn)品名稱：離子束刻蝕系統(tǒng)

品牌：Elionix

型號：EIS-200

關(guān)鍵詞標(biāo)簽：離子束蝕刻，干法蝕刻，離子束轟擊，離子束減薄

簡短描述：（<40字）：利用ECR技術(shù)產(chǎn)生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速，對樣品進(jìn)行物理的轟擊達(dá)到刻蝕作用。

一、簡介

EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(shù)（ECR）的小型離子束蝕刻系統(tǒng)，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、鍍膜等。

EIS-200原理：

利用ECR技術(shù)產(chǎn)生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速到達(dá)樣品表面，對樣品進(jìn)行物理的轟擊達(dá)到刻蝕作用。

EIS-200具有以下優(yōu)點(diǎn)：

?方向性好，各向異性，陡直度高，側(cè)向刻蝕少

?分辨率高

?不受刻蝕材料限制，可對石英等材料進(jìn)行蝕刻

?可控制蝕刻Taper角

?可以設(shè)定多樣的實(shí)驗(yàn)條件

二、主要功能

l主要應(yīng)用

納米級圖案刻蝕

高深寬比蝕刻

表面清潔

離子減薄

l技術(shù)能力

三、應(yīng)用

納米級圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等

?SiO2 on Si substrate

?Diamond Substrate（金剛石）

?Quartz (Mask)

?Oriented PET film