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特征概覽:

• 用于監測復雜工藝制程四極質譜分析儀系統，檢測范圍：0-100，0-200和0-300amu
• 允許7天24小時連續監控，提高產品良率及產能，降低生產成本
• 緊湊型設計可安裝于每個高壓強真空系統
• HexBlock ^TM 取樣系統使系統性能**化
• 內置壓力傳感器（CDG），用于工藝壓強監測和提供聯鎖保護
• 備用可選的標準氣體，用于調諧和校正
• 封閉式離子源可阻擋腐蝕性氣體和反應性氣體，并可檢測ppm量級的污染物
• 重量輕，易搬運

應用：

• 高壓強真空系統（< 2個大氣壓）檢漏，氣體純度，污染檢測，工藝制程監控及刻蝕終點探測 （Endpoint），涉及領域：材料，傳統高壓強真空系統，半導體，平板顯示器及太陽能等行業PVD，CVD及刻蝕系統