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主要用于半導體功率器件、電力電子器件、精密材料、高性能新材料（如陶瓷、陶瓷金屬化等）的真空/氣氛熱處理（如燒結、封裝、退火、時效等）等工藝。

產品性能：

200～1350℃/1600℃，6/3點控溫

鉬（或鎢等）加熱，六面/全面加熱, 圓形+

前后門加熱

快冷、真空壓力、氣氛等的多工藝控制方式

反應室容積大，高潔凈，高生產效率