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特　長

薄膜到厚膜的測(cè)量范圍、UV~NIR光譜分析

高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜量測(cè)儀

藉由**反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000高端機(jī)種90%的強(qiáng)大功能

無復(fù)雜設(shè)定，操作簡(jiǎn)單，短時(shí)間內(nèi)即可上手

線性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)（n:折射率、k:消光系數(shù)）

測(cè)量項(xiàng)目

• **反射率測(cè)量

• 膜厚解析（10層）

• 光學(xué)常數(shù)解析（n：折射率、k：消光系數(shù)）

產(chǎn)品規(guī)格

※1 請(qǐng)于本公公司聯(lián)系聯(lián)系我們
※2 對(duì)比VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品（100nm SiO2/Si），范圍值同保證書所記載
※3 測(cè)量VLSI標(biāo)準(zhǔn)樣品（100nm SiO2/Si）同一點(diǎn)位時(shí)之重復(fù)再現(xiàn)性。（擴(kuò)充系數(shù)2.1）

應(yīng)用范圍

半導(dǎo)體晶圓膜（光阻、SOI、SiO2等）
光學(xué)薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）

測(cè)量范例

• PET基板上的DLC膜

• Si基板上的SiNx