粉體行業在線展覽
碳膜濺射設備 CS-200
面議
萬德思諾
碳膜濺射設備 CS-200
890
產品圖片:
產品型號:
CS-200
產品介紹:
Dense carbon film for high temp. anneal
Max. Substrate φ200㎜(Transfer tray available)
產品特點:
1. Key point for carbon process
- Front(Ion Implantation) and Back(Annealing) processes are well known.
2. Good process experience for CC deposition
- AIST and SIC production company uses ULVAC system.
3. Optional items
- High temp stage, RF stage bias, 3MFC line, DRP, etc.
溶液成長法單晶生長設備(TSSG法)
中型高速研磨設備 STC-610
快速高溫退火設備RTA RSA-06
全自動晶片減薄機SGM-9100
桌上型精密切割機MPC-200e
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備 M150A
C2W低溫熱壓鍵合設備 SAFP
高還原性低溫熱壓對準鍵合設備 MAFP
高還原性低溫熱壓鍵合設備 FATB
碳膜濺射設備 CS-200
碳膜去除設備 NE-550EX
激活退火設備 Ailesic-2000
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037