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ASML 二手ArF浸沒式光刻機XT:1900Gi
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ASML 二手ArF浸沒式光刻機XT:1900Gi
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TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系統是一種高生產率的雙級浸沒式光刻工具，專為 45 納米及以下分辨率的 300 毫米晶圓批量生產而設計。
XT：1900Gi采用蔡司星石1900i浸沒鏡頭。這是現有的大型ArF鏡頭，在1.35NA時，它推動了水基ArF浸入式平版印刷達到極限。結合ASML的Ultra-k1產品組合，它提供了行業*低的可用k1值，它可以實現40nm及以下的半間距分辨率。
XT：1900Gi采用新的測量和曝光周期，它為浸入式光刻設定了一個新的基準，每小時生產131個晶片。
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