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無(wú)掩模曝光機(jī)

美國(guó)IMP（Intelligent Micro Patterning， LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光**技術(shù)，已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的***。

產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：

微米和亞微米光刻 (*小可達(dá)到0.6um線寬)

紫外光直寫(xiě)曝光，無(wú)需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用

靈活性高，可直接通過(guò)電腦設(shè)計(jì)光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整。

可升級(jí)開(kāi)放性系統(tǒng)設(shè)計(jì)。

按照客戶要求可從低端到高端自由配置

使用維護(hù)簡(jiǎn)單， 設(shè)備耗材價(jià)格低。

應(yīng)用范圍廣，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。

*小線寬可以達(dá)到0.6um量級(jí)