粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
直接聯(lián)系
上海載德半導體技術(shù)有限公司
法國
面議
1734
噴射化學氣相沉積(Spray CVD)
產(chǎn)地：法國AS；
- 主要用于太陽能電池氧化物、半導體、電光涂層、絕緣層、超導體、固體燃料電池等的材料制備及薄膜沉積。
- 2inch小型噴射化學氣相沉積設(shè)備，主要用于實驗室。沉積及退火在同一個腔體內(nèi)完成。
性能和特點：
- 溫度范圍：室溫 ~ 1200攝氏度;
- *快升溫速度：250攝氏度/秒;
- 前驅(qū)體混合能力(帶有Atokit噴霧器);
- **真空度：10-6 Torr;
- 樣品尺寸：不大于2英寸;
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
