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美國SVT脈沖激光沉積設備/PLD

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1005

產品介紹

SVTSMARTScientific Materials and Applied Research Tool)脈沖激光沉積系統具有****的優越性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術(如RF源)集成于一臺設備上。可以生長各種可能的材料。

配有6個旋轉靶臺,實現多層薄膜結構生長。

可與準分子激光和Yag激光相連。

在線監控儀器做為可選件,為客戶提供高質量的工藝信息反饋。

裝載室不但可以裝取樣品,還可以與其他生長設備或分析設備相連。

應用

多元素復合氧化物

高溫超導材料

磁性材料、金屬材料

低蒸汽壓材料

MEMS

基本系統

腔室及真空泵

12’’ 快速門,250l/s 分子泵,全量程規

沉積源

靶臺,6X1’’(25mm) 靶,可以水平旋轉,

Z方向移動

樣品臺

1’’(25mm)大小,可加熱至800oC1000oC可選),可水平旋轉,可Z方向移動

在線工藝監控

石英晶振沉積速率監控儀

自動化

自動化裝置:

控制樣品溫度和旋轉

靶臺的位置控制

靶臺旋轉

氣體控制

速率及厚度計算(利用QCM輸出)

激光束掃描(可選)

激光束屏蔽控制

自動泵抽和充氣

差分泵抽結構

RHEED分析(可選)

裝載室壓強監控(可選)

主要特點

RF射頻等離子源(氧,氮)

升級高真空

增加進樣室

升級為Laser-MBE (L-MBE)系統

自動軟件控制

提供更潔凈的薄膜生長環境,**的溫度控制解決方案.

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