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鈀膜氫氣純化器/ Palladium Membrane Hydrogen Purifier                           

產氫量/ H2 Output：0-50m3/h；

氫純度/ H2 purity：≥ 99.9999999%（9N），與原料氣純度相關；     

主要用途/ Main applications：MPCVD培育鉆石/MPCVD Lab-grown Diamond、色譜/ Gas Chromatography、燃料電池/ Fuel Cell、電子/ Electronics、冶金/ Metallurgy       

一、產品介紹

基于公司金屬鈀膜的氫氣純化系統具有體積小、操作簡單、產氫純度高等優勢，能夠有效截留除氫氣之外的其它任何物質，不僅與氫能需求具有**的契合度，而且在MPCVD培育鉆石、粉末冶金、MOCVD半導體、色譜分析載氣、光伏、核能等眾多高科技產業都有廣泛應用。

二、純化原理

利用只有氫原子才能透過鈀晶格的特性，可以實現氫氣的**選擇性，即在壓力驅動下，氫氣能夠很容易地透過鈀膜，而其它任何氣體都不能透過，即使對氦氣也可以有效截留，這是其它任何氫氣純化方法無法企及的。

目前常用的吸附法純化氫氣設備體積大且復雜，除雜能力取決于所選擇的吸附劑，因此原料氣中出現意料之外的有毒成分時可能無法截留。許多時候，吸附法純化所標出的產氫純度只是一種相對純度而非**純度，即人為忽略“無害”和“意外”雜質氣之后的純度，在使用過程中容易帶來隱患，尤其是面向MPCVD培育鉆石和氫燃料電池領域應用。而鈀膜純化法則不存在這一問題。

之所以鈀膜能夠對氫氣有超高的純化能力，是因為氫氣透過鈀膜的方式為溶解—擴散模式，透氫過程包含以下五個步驟：

(1)    氫分子在鈀膜表面進行化學吸附；

(2)    吸附的氫分子解離成氫原子，并溶解于鈀膜；

(3)    氫原子在鈀膜中從滯留側擴散到滲透側；

(4)    氫原子從鈀膜滲透側析出，并重新結合成氫氣分子；

(5)    氫氣分子從鈀膜表面脫附。

三、主要技術指標

氫氣純度：≥ 99.9999999%（9N）；   **純化量：0-50 m3/h

原料氫壓力： 0-2.5 MPa                       純化氫壓力：根據純化流量自適應

原料氫含氫量：不小于50%                    工作時間：連續使用   

設備標配純度監測（露點法）確保掌握實時輸出的氫氣純度，基于鈀膜**氫滲透純化的原理，可以使用露點法準確的判斷出氫氣純度。