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ESCALAB XI配備了微聚焦單色化X射線源，旨在提供**的XPS分析性能+X射線光電子能譜儀能滿足大吞吐量樣品測試需求多技術能力、一系列靈活的樣品制備室及樣品處理設備，使該儀器在解決任何表面分析問題時都能游刃有余。利用先進的 Avantage 數據采集和處理系統，從測試數據中挖掘盡可能多的信息。

The ESCALAB XI+ X-ray Photoelectron Spectrometer (XPS) Microprobe Features:

• 高靈敏度能譜

• 小面積 XPS

• 深度剖析能力

• 角分辨 XPS

• 標配離子散射能譜 (ISS)功能

• 標配反射電子能量損失譜 (REELS)功能

• 標配“樣品預處理”室

• 多技術分析的多功能性

• 多個樣品制備技術可選

• 全自動無人值守式分析

• 多樣品分析

單色化X射線源

• 雙晶體微聚焦單色器配備一個 500 mm 直徑的羅蘭圓，使用鋁陽極靶

• 樣品 X 射線光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm

透鏡、分析儀和檢測器

• 透鏡、分析儀和檢測器構成XPS檢測系統+XPS光譜儀在成像和微區方面的分析能力都是****的

• 兩種類型的檢測器可以確保為每種分析提供**檢測——用于成像的二維檢測器和適用于高計數率檢測的電子倍增器

• 透鏡配備了兩個電腦控制的虹膜機構 - 一個允許用戶將透鏡的視野控制在<20μm以下進行微區分析，另一個控制透鏡的接收角度，以便獲得高質量角度分辨數據

• 180° 半球型能量分析器

深度剖析

• 數控式 EX06 離子槍是一款高性能的離子源，哪怕在使用低能離子源時也有著很好的性能

• 提供方位角樣品旋轉

• 多技術能力

• 可配備其他分析技術而不降低 XPS 檢測性能

• 使用 EX06 離子槍時透鏡組和能量分析儀的電源可反向（確保離子散射能譜 (ISS) 可用）

• 電子槍可加壓升至 1000 V，為 REELS 提供優異的離子源

技術選項

• 非單色化 X 射線光源的XPS分析

• AES（俄歇電子能譜）

• UPS（紫外光電子能譜）

真空系統

• 5 mm 厚高導磁?金屬分析室，**程度提高磁屏蔽效率

• 與使用內部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳

樣品制備

• 系統標配一體化的快速進樣室和制備室

• 額外的制備室可選

Avantage 數據系統

• 集成了測試分析的所有方面，包括儀器控制、數據采集、數據處理和報告生成

• 允許遠程控制，并且可輕松與第三方軟件交互（例如 Microsoft Word）

• 管理從樣品載入到報告導出的整個分析過程