粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
直接聯(lián)系
濱州創(chuàng)元設(shè)備機械制造有限公司（現(xiàn)北京創(chuàng)元）
日本
面議
1169
儀器簡介：
本裝置同時采用高頻加熱和通電加熱對試樣加熱，熱變形通過油壓控制方式，相變點通過非接觸膨脹測定方式，在完全自動化排氣/可控氣氛中用計算機和程序控制器控制的方式，對一定的樣品可以觀察可控氣氛下熱加工體條件-溫度-畸變，熱加工過程中，加工后發(fā)生的各種現(xiàn)象，如變形阻抗，組織變化，延展性等。同時加工后相變行為也能被檢測出來。檢測出或測定而得到的情報都收集在數(shù)據(jù)采集器中。收集的數(shù)據(jù)保存后通過數(shù)據(jù)解析即可以得到人們想要得S-S曲線和CCT曲線。
技術(shù)參數(shù)：
規(guī)格項目 試樣 規(guī)格・指標(biāo)，方式 備注
1
加熱方式
平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 HF+LF No.1， No.2
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 HF No.3
單軸壓縮試樣 HF No.4
NOTE HF：高頻加熱 LF：直接通電加熱
2
溫度檢出 整個試樣 「R」熱電偶溶焊方式
NOTE 用配置的Thermocouple welder溶焊
3
加熱范圍
平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 RT－1600 ℃ 直到試樣融化 *1
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 RT－1300 ℃
單軸壓縮試樣 RT－1600 ℃ 直到試樣融化
NOTE1 RT：室溫
NOTE2 *1 30x30的試樣只能到達1300℃
4
加熱速度
平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 20□ Max. 30℃/sec LF為主
30□ Max. 20℃/sec LF為主
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 10×20 Max. 10℃/sec 只有HF
單軸壓縮試樣 φ8×12 Max. 70℃/sec
5
均熱性
平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 20□ ±10℃／20mm 中央部 LF為主
30□ ±10℃／20mm 中央部 LF為主
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 10×20 ±10℃／20mm 中央部 只有HF
單軸壓縮試樣 φ8×12 ±10℃／10mm 中央部
6
控制精度 整個試樣 ± 3℃
冷卻性能
規(guī)格項目 試樣 規(guī)格・指標(biāo)，方式 備注
1 冷卻方式
平面應(yīng)變 正方形試樣 通過和加熱感應(yīng)圈同軸配置的噴嘴噴出冷卻介質(zhì)
平面應(yīng)變 長方形試樣 通過和加熱感應(yīng)圈同軸配置的噴嘴噴出冷卻介質(zhì)
單軸壓縮試樣 專用噴嘴噴出冷卻介質(zhì)
NOTE 冷卻介質(zhì)：Gas… He 、Ar 、N2 水
2 響應(yīng)時間
Gas冷卻 0.1sec以內(nèi)
水冷卻 0.2sec以內(nèi)
NOTE 根據(jù)Program pattern，冷卻開始Timing可以任意設(shè)定。
3
|
1 強制冷卻速度
水冷卻 平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 20□ Max. 400℃/s 両端卡頭固定
30□ Max. 300℃/s 両端卡頭固定
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 10×20□ Max. 300℃/s 固定銷固定
單軸壓縮試樣 φ8×12 Max. 500℃/s Si3N4 壓頭
3
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2 強制冷卻速度
He Gas冷卻 平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 20□ Max. 12℃/sec 両端卡頭固定
30□ Max. 8℃/s 両端卡頭固定
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 10×20 Max. 20℃/s 固定銷固定
單軸壓縮試樣 φ8×12 Max. 70℃/s Si3N4 壓頭
3
|
3 強制冷卻速度
N2 Gas冷卻 平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 20□ Max. 6℃/sec 両端卡頭固定
30□ Max. 4℃/s 両端卡頭固定
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 10×20 Max. 10℃/s 固定銷固定
單軸壓縮試樣 φ8×12 Max. 35℃/s Si3N4 壓頭
規(guī)格項目 試樣 規(guī)格・指標(biāo)，方式 備注
4
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1 可控冷卻速度
He Gas冷卻 平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 20□ Max. 6℃/sec 両端卡頭固定
30□ Max. 4℃/sec 両端卡頭固定
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 10×20 Max. 12℃/sec 固定銷固定
單軸壓縮試樣 φ8×12 Max. 40℃/sec Si3N4 壓頭
4
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2 可控冷卻速度
N2 Gas冷卻 平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 20□ Max. 3℃/sec 両端卡頭固定
30□ Max. 2℃/sec 両端卡頭固定
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 10×20 Max. 6℃/sec 固定銷固定
單軸壓縮試樣 φ8×12 Max. 20℃/sec Si3N4 壓頭
5 冷卻精度 平面應(yīng)變 LF加熱形試樣 20□ 冷卻時間差 30％以內(nèi)
30□ 冷卻時間差して 30％以內(nèi)
平面應(yīng)變 HF加熱形試樣 10×20 冷卻時間差 30％以內(nèi)
單軸壓縮試樣 φ8×12 冷卻時間差 30％以內(nèi)
Note 試樣在均溫范圍（溫度檢測點3點）內(nèi)的冷卻時間差定義為冷卻精度
3.1.3加載指標(biāo)
加載性能
規(guī)格項目 試樣 規(guī)格・指標(biāo)，方式 備注
1 加載方式 上部Actuator Stroke控制方式
下部Load cell
2 控制方式 電氣－油圧司服控制方式
3 載荷 Max. 300 kN 靜載荷
4 加載速度 0 ～ 1000mm/sec 無負荷速度
5 活塞行程 Max. 60 mm
6 變形行程*1 φ8×H12 Max. 20 mm 20mm LVDT
Max. 60 mm 60mm LVDT
7 變形段數(shù) Max. 12回 平均Stroke 2mm
（壓縮變形）
8 Pass間隔時間 *小 0.02sec 助走距離 Max. 1mm
（壓縮變形） *小 0.1sec 助走距離 Max. 10mm
9 控制形態(tài) 位相控制或載荷控制
10 控制精度 位相控制 ± 0.1mm 變形范圍10mm時候
載荷控制 ± 2 kgf/mm2 使用φ8×H12時候
11 芯振れ精度 平面應(yīng)變試樣 ±1mm以內(nèi)／壓縮300kN 變形壓頭幅15mm
試樣Set部分和壓頭裝卸部分
規(guī)格項目 試樣 規(guī)格・指標(biāo)，方式 備注
1 試樣 平面應(yīng)變LF形試樣 2個部分分別用bolt固定 両端夾具方式
平面應(yīng)變HF形試樣 Pin插入支持方式 両端支持方式
單軸壓縮試樣 Build Up方式 壓頭在上方式
2 壓頭 平面應(yīng)變LF形試樣 Wedge挿入固定方式
平面應(yīng)變HF形試樣 Wedge挿入固定方式
單軸壓縮試樣 Screw固定方式
膨脹測定定性能
規(guī)格項目 規(guī)格性能值 條件
1 測定方式 GaN LED Beam陰影檢出法
2 Beam方向 垂直 平面應(yīng)變試樣
水平 單軸壓縮試樣
3 測定部位 變形后變形部分板厚 平面應(yīng)變試樣
變形后高度中央部分直徑 單軸壓縮試樣
4 測定范圍 1mm～30mm（板厚） 平面應(yīng)變試樣
8mm～30mm（直徑） 單軸壓縮試樣
5 測定精度 ±3μm
6 溫度范圍 RT～1250℃
7 測定Timing 變形后1秒之內(nèi)
3.1.4 排氣・氣氛性能指標(biāo)
規(guī)格項目 規(guī)格性能值 條件
1 真空排氣機器 Rotary Pump＋Air式valve＋Pirani真空計
2 真空排氣性能 排氣速度 1.3×10Pa （1×10‐1Torr）Order/10min
到達真空度 6.7×100Pa（5×10‐2Torr）
3 實驗氣氛 大氣、真空、不活性Gas（排氣后 用Gas置換）
4 氣氛壓力 0.02MPa (0.2kg/cm2)
NOTE 氣氛壓力是可變的
主要特點：
特點
(1) 在大變形速度范圍內(nèi)「1×10－3～1×10３mm/sec」進行變形加工。
(2) 由于采用了高頻加熱和通電加熱二個電源，所以很容易任意調(diào)節(jié)壓頭和樣品之間的溫度差。
(3) 因為樣品，加熱感應(yīng)圈，油壓器同步動作從而保證加工中樣品溫度均勻。
(4) 因為有高頻電源，可以根據(jù)實驗片形狀選擇加熱電源線圈，從而對各種形狀試驗片進行試驗。
(5) 冷卻時候的溫度控制通過程序自動調(diào)節(jié)氣體流量實現(xiàn)。
(6) 排氣和氣氛調(diào)整都是自動化進行的，所以可以任意獲得自己想要得到的試驗環(huán)境。
(7) LED膨脹測定系統(tǒng)和油壓器同步進行所以保證斑束總是跟蹤試樣片的中心從而精確測定試樣直徑的變化。
(8) 具有水冷機構(gòu)，可以實現(xiàn)淬火，組織穩(wěn)定化等試驗。
(9) 由于同時采用高頻和通電電阻加熱方式，除了加熱速度比較通電加熱快以外，高頻加熱的集膚效應(yīng)產(chǎn)生的高溫輻射可以從表面補償表面溫度損失。因而比只采取通電加熱方式的溫度要均勻得多。
(10) 選定設(shè)定程序后會自動計算取樣時間然后自動開始數(shù)據(jù)收集。收集后的數(shù)據(jù)在顯示屏上確認波形后進行數(shù)據(jù)解析。
(11) 儀器出現(xiàn)故障時有安全保護出措施。
