粉體行業(yè)在線展覽
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ZEISS ΣIGMA 電鏡為肖特基（Schottky）熱場發(fā)射掃描電鏡。目前歐美地區(qū)比較推崇熱場發(fā)射電鏡，而日本較熱衷于冷場發(fā)射電鏡。
該場發(fā)射掃描電鏡主要有如下特點：
1.探針電流較大，可達20nA（100nA可選），可容易進行BSE、EDS、WDS、EBSD、CL等分析。而一般冷場發(fā)射探針電流達不到這個數(shù)量級，有些分析工作（如WDS、EBSD、CL等）在冷場電鏡上難以進行。
2.平行束的電子光學系統(tǒng)：
ΣIGMA 系列熱場發(fā)射掃描電鏡鏡筒系統(tǒng)電子光學設計新穎獨特，稱為GEMINI鏡筒。在光源與樣品之間，入射電子束不形成交叉點，這與其它掃描電鏡明顯不同。入射電子束無交叉點光學設計的作用在于：⑴降低入射電子束之間的庫侖統(tǒng)計相互作用（減少電子碰撞，降低色差）；⑵降低外部環(huán)境雜散磁場對入射電子束的影響。因此，GEMINI鏡筒設計確保了入射電子束的亮度及圖像分辨率。特別在低入射能量應用時，上述作用尤為重要。
3.可擴展性：標配所有的接口，可以兼容市場上所有的電鏡相關附件，如：能譜儀、波譜儀、EBSD、CL、冷凍臺、拉伸臺、等離子清洗裝置等，后續(xù)升級沒有任何障礙。
4.電子束噪聲較小，<1%。
5.束流穩(wěn)定度高，優(yōu)于0.2%/h，適宜于長時間的各種精確分析。
上述兩項指標其它廠家均未給出。在理論上冷場發(fā)射要比熱場發(fā)射要差一個數(shù)量級。
6.所需的工作真空度（包括電子槍真空度和樣品室真空度）較低，對環(huán)境、樣品要求不高。而冷場發(fā)射電鏡的真空度比熱場要高2個數(shù)量級，真空系統(tǒng)復雜，如樣品不清潔、有揮發(fā)、放氣等情況，抽真空較困難。
7.采用動態(tài)/靜態(tài)磁透鏡（雙子星座），沒有雜散磁場，可對鐵磁體樣品進行高分辨率成像。（蔡司是行內(nèi)**可以承諾做磁性材料的電鏡品牌）
8.超大樣品室：樣品室尺寸達到365mm（內(nèi)直徑）×275mm（內(nèi)高度），五軸馬達驅(qū)動全優(yōu)中心樣品臺，行內(nèi)**的五軸樣品臺移動范圍：X = 125mm，Y = 125mm，Z = 50mm，T = 0 to 90°，R = 360° ，為使用提供了極大的方便。
9.抽屜式樣品室拉門，方便樣品更換及大樣品、形狀復雜樣品的觀察，**樣品直徑可達250mm以上，**樣品高度約為145mm。而冷場掃描電鏡由于要求的真空度較高，不宜破壞樣品室真空，一般用“樣品交換氣鎖”來更換樣品，操作麻煩，且進出樣品的尺寸、形狀受限，一般樣品**直徑不超過100mm，**樣品高度約為26mm。
10.采用全自動控制無油式真空系統(tǒng)，采用機械泵＋磁懸浮分子渦輪泵＋離子泵，無油污染。
11.獨特的環(huán)形In-lens二次電子探測器，探測效率高、圓周對稱。而其他廠家的In-lens探測器安裝在一側(cè)，且結構復雜。
12.維護簡便，且工作穩(wěn)定。冷場電鏡每8個小時都需要Flash(陰極還原)，且發(fā)射電流不穩(wěn)定，使用維護麻煩。而熱場電鏡無此麻煩。
13.末級光欄采用多孔光欄結構，用電磁方式進行更換和對中調(diào)整，操作方便。鏡筒上無需用戶調(diào)整的部件。
14.高景深：物鏡光欄放在燈絲下，景深行內(nèi)**。
15.多功能控制面板：方便進行聚焦、消像散、電位移、放大倍率調(diào)整等。
16.可選配光電一體化模塊，實現(xiàn)與光學顯微鏡連用：實現(xiàn)低倍定位，拍照等功能。
