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退火爐主要用于晶體或是晶片在真空環境中的退火工藝環節，消除晶體或晶片內部應力或缺陷，從而提高晶體或晶片加工性能和品質。

性能優勢

1、腔體內部經鏡面拋光，減少氧化物附著，具有高真空獲得能力與長時間保壓能力，可以實現自動工藝方式；

2、控溫精度可達±0.5℃，實現橫向和縱向的溫度梯度均≤0.5℃/cm。

晶體尺寸 6 ~ 12英寸 

工藝 退火處理 

加熱方式 電阻式 

基本參數 主機尺寸 根據選型對應不同尺寸 

整機重量 約2.2 ~2.7T 

支持系統 電     源 容    量 25kVA 

電    壓 AC380V,  3P,  50Hz 

冷 卻 水 壓    力 0.35~0.5MPa 

流    量 ＞120L/min 

工藝氣體 壓    力 ＞0.2MPa 

壓縮空氣 壓    力 0.5 ~ 1.0MPa