粉體行業在線展覽
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真空退火爐—VF-200
直接聯系
合肥致真精密設備有限公司
安徽
面議
致真精密
真空退火爐—VF-200
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真空退火爐是改善薄膜質量的有效手段，在特殊氣體氛圍下加熱還可以改善薄膜的組分。VF-200是致真設備公司推出的一款標準型退火爐，可與公司其他工藝腔體互聯實現薄膜的原位退火，也可以單獨使用。還可以選配磁鐵模塊實現對磁性薄膜的誘導，系統搭配控制軟件，運行穩定可靠!
性能參數
晶圓尺寸 | 1inch-8inch |
極限真空 | 5×10-8mbar |
溫控 | RT-1200℃，精度±1℃ |
加熱方式 | SIC輻射加熱 |
氣體氛圍 | 可在O2等環境下加熱 |
互聯 | 可與工藝腔體互聯實現自動傳輸 |
真空系統 | 機械泵+分子泵 |
可選 | 磁鐵模塊、進樣室、氣氛退火等 |
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備（外置機械臂、內置機械臂）
兩個鍍膜系統直接互聯設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
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