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立式化學氣相沉積爐

VCVD

直接聯(lián)系

湖南頂立科技股份有限公司

湖南

產(chǎn)品規(guī)格型號

參考報價：

100-150萬元

品牌：

頂立科技

型號：

VCVD

關(guān)注度：

8108

范圍（量程或細度）：

產(chǎn)品介紹

立式化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8、CH4等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。

技術(shù)特征

☆ 采用多溫區(qū)獨立控溫，溫度均勻性好；

☆ 采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
☆ 采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
☆ 對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號	VCVD-0305-C	VCVD-0608-C	VCVD-0812-C	VCVD-1120-C	VCVD-1320-C	VCVD-1520-C
工作區(qū)尺寸D×H（mm）	Φ300×500	Φ600×800	Φ800×1200	Φ1100×2000	Φ1300×2000	Φ1500×2000
**溫度（℃）	1500	1500	1500	1500	1500	1500
溫度均勻性（℃）	±5/±10	±7.5/±10	±7.5/±15	±10/±15	±10/±15	±10/±20
極限真空度（Pa）	1-100	1-100	1-100	1-100	1-100	1-100
壓升率（Pa/h）	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67
加熱方式	電阻/感應(yīng)	電阻/感應(yīng)	電阻/感應(yīng)	電阻/感應(yīng)	電阻/感應(yīng)	電阻/感應(yīng)

參數(shù)\型號	VCVD-1822-C	VCVD-2032-C	VCVD-2632-C	VCVD-3338-C	VCVD-3344-C
工作區(qū)尺寸D×H（mm）	Φ1800×2200	Φ2000×3200	Φ2600×3200	Φ3300×3800	Φ3300×4400
**溫度（℃）	1500	1500	1500	1500	1500
溫度均勻性（℃）	±15	±15	±15	±20	±20
極限真空度（Pa）	1-100	1-100	1-100	1-100	1-100
壓升率（Pa/h）	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67
加熱方式	電阻	電阻	電阻	電阻	電阻

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整，不作為驗收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準。

配置選擇

☆ 爐門：絲桿升降/液壓升降/手動升降；旋轉(zhuǎn)移開/平行移開（大尺寸爐門）；手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊

☆ 爐殼：全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
☆ 爐膽：軟碳氈/軟石墨氈/硬質(zhì)復合氈/CFC
☆ 加熱器、馬弗：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨
☆ 工藝氣路系統(tǒng)：體積/質(zhì)量流量計；手動閥/自動閥；進口/國產(chǎn)
☆ 熱電偶：K分度號/N分度號/C分度號/S分度號