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產(chǎn)品介紹主要用于:

Sapphire/GaAs/素玻璃/石英光罩/光學(xué)玻璃，面板顯示器及光學(xué)產(chǎn)業(yè)等相關(guān)拋光用途。

適用于中壓研磨制程，單面拋光工藝中各種尺寸及形狀的芯片加工。

材質(zhì)包括:

●基板+背墊，基板有環(huán)氧樹脂板或不銹鋼板等可選，背墊有開孔或閉孔可選;

●依客戶圖紙要求進(jìn)行閉孔、開孔，以及單孔、整張等不同規(guī)格的定制。

產(chǎn)品特點(diǎn):

●真空狀態(tài)吸附住被拋光物件，高的壓縮率及壓縮回復(fù)率，為中高壓研磨制程，提升研磨精密度

和平坦度;

●替代以蠟將工件粘附在治具的模式，使工件在加工過程中固定不脫落，完工后便利取片，且不

會(huì)有殘蠟及膠;

●特有的材料結(jié)構(gòu)，可耐酸堿、壽命長。

產(chǎn)品參數(shù):