91?清视频在线免费?看_99re6这里只有精品视频6_www.成人动漫_青青青青娱乐_小婕子伦流澡到高潮视频_亚洲综合AV永久无码精品一区二区

PECVD鍍膜設備

      PEVCD(等離子增強化學氣相沉積)*重要的應用之一是沉積微電子器件用絕緣薄膜，在低溫下沉積氮化硅、氧化硅或硅的氮氧化物一類的絕緣薄膜，這對于超大規模集成芯片的生產是至關重要的。PECVD的一個重要優點是能在比熱CVD更低的溫度下沉積。PECVD技術在250～400度的溫度范圍內使氮化硅薄膜的沉積成為可能。PECVD沉積SiO2絕緣層被廣泛地應用于半導體器件工藝，*近在光學纖維的涂層和某些裝飾性涂層方面獲得了應用。近年來，PECVD在摩擦磨損、腐蝕防護和切削工具涂層應用方面獲得了很大進展。