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高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

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北京泰科諾科技有限公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號

參考報(bào)價(jià)：

面議

品牌：

北京泰科諾

型號：

高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

關(guān)注度：

964

產(chǎn)品介紹

設(shè)備型號：JCPY500

真空腔室結(jié)構(gòu)：后置抽氣系統(tǒng)

真空腔室尺寸：Φ500mm×H450mm帶 Load-Lock 功能支持單片或多片進(jìn)取樣

加熱溫度：室溫～ 500℃

基片臺尺寸：Φ150mm

膜厚不均勻性：Φ100mm 范圍內(nèi)≤ ±5.0%

濺射靶：Φ3、Φ4 英寸磁控靶 2-4 支（可選）

工藝氣體：3 路氣體流量控制

控制方式： PLC/PC（可選）

占地面積（主機(jī)）：L1800mm×W800mm×H1845mm

總功率：≥ 15kW

大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備

1. 可提供工藝技術(shù)支持，及良好售后服務(wù)；

2. 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，性價(jià)比高，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；

3. 單靶濺射 / 多靶依次濺射或共同濺射，兼容 DC/MF/RF 濺射等功能。

4. 可制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕摸、透明導(dǎo)電膜，如鈣鈦礦空穴傳輸層、金屬電極以及透明導(dǎo)電層ITO膜層的制備等”；

產(chǎn)品咨詢

高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500

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