粉體行業在線展覽
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高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD400
直接聯系
中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
遼寧
面議
沈陽科學儀器
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD400
962
真空室結構:
方形前開門
真空室尺寸:
φ400x400x400mm
極限真空度:
≤6.6E-5Pa
沉積源:
永磁靶3套，φ2英寸
樣品尺寸，溫度:
φ4英寸，1片，**800℃
占地面積（長x寬x高）:
約1.8米×1.7米×2米
電控描述:
全自動
工藝:
片內膜厚均勻性：≤±3%
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