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全自動原子層沉積系統(ALD)

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產品介紹

Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經有15年以上的ALD研發生產經驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學,05年搬到Boston并生產出Thermal ALD - Savannah, 之后生產出Plasam ALD - Fuji、批量生產ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止,Veeco在ALD設備已有15年多的經驗,全球已安裝五百多臺ALD設備。

方式: Thermal batch ALD

優勢:完全自動化的批量生產系統,*強生產能力(每月*多40000片),成本低,產量高,極優的一致性針對脆弱/溫度敏感的襯底解決方案,包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理,以實現*強工藝靈活性和產量

薄膜: 氧化物薄膜,包含封裝層、光學涂層氧化物薄膜,包含封裝層、光學涂層

反應腔體大小: 無縫晶片尺寸轉換能力高達300mm

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全自動原子層沉積系統(ALD)

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