熱絲薄膜沉積設備

MVSystems 公司設計，制造和提供各類單腔室和多腔室薄膜沉積設備。另外，根據用戶的需求，各種PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以單個制造，也可配備到現有的團簇型（星型）或是直線型沉積系統。MVSystems具有制造用于各類研發，中試以及小型生產設備的強大能力和豐富經驗，所生產的設備已成功地使用在全世界23個國家的大學，研究院所和公司。我們公司的工程部門可**限度地為用戶著想， 以使用戶們獲取他們*需要的且價格合適的設備。

作為設備銷售的一部分，我們還能向用戶保證薄膜半導體材料具有**光電子性能參數。這些材料包括非晶硅，納米硅（微晶硅），介質材料（比如氮化硅和氧化硅）和透明導電膜。

其他業務

MVSystems 擁有各類研發設施和技術人員，具備開發各種光電子薄膜技術的能力。

研發: 可以為全球的大學，政府研究機構和公司提供服務。

代工服務: 使用計算機控制的大面積團簇型（星型）等離子輝光放電（PECVD）/濺射系統，MVSystems 公司可以為用戶提供如下各類薄膜材料和器件，包括：

• 非晶硅本征和摻雜(n+ and p+ 型)膜。

• 納米（或者微晶）硅 (本征和摻雜)膜。

• 介質材料(如SiNx， SiOx)。

• 透明導電薄膜 （如ITO，AZO）。

• 太陽電池，非晶硅薄膜晶體管，電子成像和存儲器件等。

研發設施: 在公司實驗室內配置了具有高度安全性的監測系統用于監控和處理各類危險有毒氣體，比如硅烷等。

(1) 大面積團簇型薄膜沉積系統：**襯底面積可達30厘米×40厘米，具有6個PECVD腔室（配有射頻，甚高頻電源以及具有脈沖調制功能）和1個雙靶位濺射系統（配有直流和射頻電源），以及多片倉位功能。整個操作可由電腦控制。

(2) 熱蒸發系統用于制作金屬電極。

(3) 太陽電池測試系統：配有符合AM1.5G光譜的氙燈光源。可用于測量電池的光暗I-V曲線和量子效率。也可用作測試各類半導體薄膜的光暗電導率以及γ參數。

(4) 電導率激活能測試系統。

(5) 紅外光譜測試儀。

(6) 紫外至紅外光的透射和反射測量儀，配置有積分球。

(7) 橢偏儀用于測量薄膜厚度和介電常數。

(8) 臺階儀用于測量薄膜厚度。

(9) 光發射譜儀用于實時監控等離子體過程。

(10) 各種光源，濾波片，示波儀，顯微鏡以及其它實驗室通用儀器。