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電子束蒸發(fā)技術(shù)

NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：

NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)有兩種不同的構(gòu)造可供選擇。**種為垂直緊連的雙腔架構(gòu)，其中主腔體是14英寸的立方體，其內(nèi)有樣品臺(tái)，底部二級(jí)腔體則用于安置電子束源。這種構(gòu)造可在兩個(gè)腔體之間裝有門閥互鎖，可實(shí)現(xiàn)主腔體放取片過(guò)程保持電子束源和坩堝的真空狀態(tài)。若需實(shí)現(xiàn)自動(dòng)上下片，通過(guò)在主腔體左邊增加帶真空閥門的進(jìn)樣室即可。這樣，主腔體可以持續(xù)保持10^-7托范圍的低壓，裝片后幾分鐘內(nèi)就可進(jìn)行蒸鍍。第二種構(gòu)造為一個(gè)獨(dú)立大腔體，基板上安裝電子束蒸鍍腔、磁控槍和熱蒸鍍。該構(gòu)造可涂覆多種尺寸的晶圓，過(guò)程中使用行星運(yùn)動(dòng)的樣品臺(tái)。

NANO-MASTER公司可通過(guò)樣片掩膜實(shí)現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過(guò)電腦控制單個(gè)電子束蒸鍍的蒸鍍速率。

NEE-4000系統(tǒng)特點(diǎn)：

• 電拋光14"立方體或21"x21"x22"不銹鋼優(yōu)化蒸鍍腔體

• 680 l/sec 渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵

• 4x 15CC pocket電子槍

• 電子束源和基片遮板

• 6KW開(kāi)關(guān)電源，杰出的消弧性能

• 自動(dòng)Pocket索引以及可編程的掃描控制器

• 膜厚監(jiān)測(cè)，可設(shè)置目標(biāo)膜厚作為工藝終點(diǎn)條件

• 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，提供高均勻性

• 帶觀察視窗的腔門，便于放片/取片

• PC全自動(dòng)控制，具有高度的可重復(fù)性

• Labview軟件的計(jì)算機(jī)全自動(dòng)工藝控制控

• 多級(jí)密碼保護(hù)的授權(quán)訪問(wèn)設(shè)計(jì)

• EMO保護(hù)以及完全的安全聯(lián)鎖

NEE-4000系統(tǒng)可選項(xiàng):

• 基片加熱(**可到800℃)或冷卻

• 帶旋轉(zhuǎn)的傾斜沉積

• 行星運(yùn)動(dòng)式基片夾具

• 基片RF/DC偏壓

• 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍

• 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）

• 用于反應(yīng)蒸鍍的MFC

• 不同的泵組選擇

• 進(jìn)樣室和自動(dòng)上下片/可支持單片和25片片夾

NEE-4000系統(tǒng)應(yīng)用:

• 剝離

• 光學(xué)涂覆

• 銅銦鎵硒(CIGS)

• 約瑟夫森連接

• OLED