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等離子輔助MOCVD技術

NMC-3000 MOCVD系統概述：

NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD)，該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空)、PC全自動控制，完全的安全互鎖。

目前，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統，該系統可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。

NMC-3000 PAMOCVD系統應用：

• III-V族半導體層

• 藍光及綠光LED

• 激光二極管

• 在紫外-紅外光電中的InN納米棒

• 在3D和2D材料中的MoS2，BN和石墨烯沉積

NMC-3000 PAMOCVD系統特點：

• 臺式系統

• 5個帶獨立冷卻槽的起泡器

• 加熱的氣體管路

• 950 °C樣品臺，2”晶圓片

• 3個氣體環

• RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布

• 工藝完成后N2自動沖洗

• 極限真空5x10-7Torr

• 260 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵

• 通過LabView軟件實現PC計算機全自動控制

• 菜單驅動，4級密碼訪問控制

• 完整的安全聯鎖

NMC-3000 PAMOCVD系統 選配：

• 獨立式系統

• ICP或者微波等離子源

• 14”立方的電拋光不銹鋼腔體

• 8”或者12”的基片夾具

• 700°C旋轉基片夾具用于6”樣品臺，950°C用于4”樣品臺

• 增加鼓泡器和MFC

• 自動上下片

• 集群配置可兼容