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磁控濺射技術
NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(**可加熱到700度)功能，**到6"旋轉平臺，**可支持到3個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-3000（A）帶有14”立方形鋁質腔體，3個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，260 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。
NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統產品特點：
不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃
70或250l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
完全的安全聯鎖功能
預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統選配項：
不銹鋼腔體
RF、DC濺射
RF或DC偏壓（1000V）
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監測儀
基片的RF射頻等離子清洗
NSC-3000（A）全自動磁控濺射系統應用：
晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
光學以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應濺射
