粉體行業在線展覽
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等離子輔助MOCVD技術
NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD)，該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制，完全的安全互鎖。
目前，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統，該系統可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。
NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統應用：Green LED’s (GaN， InGaN， AlGaN， ...)
NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統特點：
獨立系統
14”不銹鋼立方體腔體
1次在8”樣品臺上處理1個6”晶圓片或在12”樣品臺上處理5片4”片子
加熱的氣體管路
RF等離子源，自動調諧
淋浴頭氣體分布
1100°C的旋轉樣品臺
N2沖洗
全自動上下載片
可以兼容到集群配置中
NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統 Features：
Stand Alone System
14” Stainless Steel Cube Chamber
One 6” Wafer with 8” Platen or five 4” Wafers on 12” platen
Heated Gas Lines
RF Plasma Source with Auto Tuner
Shower Head Gas Distribution
1100 °C Platen， Rotating
N2 Flush
Automatic wafer Loading and Unloading
Compatible with Cluster
