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等離子輔助MOCVD技術

NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD)，該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空)、PC全自動控制，完全的安全互鎖。

目前，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統，該系統可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。

NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統應用：Green LED’s (GaN， InGaN， AlGaN， ...)

NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統特點：

• 獨立系統

• 14”不銹鋼立方體腔體

• 1次在8”樣品臺上處理1個6”晶圓片或在12”樣品臺上處理5片4”片子

• 加熱的氣體管路

• RF等離子源，自動調諧

• 淋浴頭氣體分布

• 1100°C的旋轉樣品臺

• N2沖洗

• 全自動上下載片

• 可以兼容到集群配置中

NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統 Features：

• Stand Alone System

• 14” Stainless Steel Cube Chamber

• One 6” Wafer with 8” Platen or five 4” Wafers on 12” platen

• Heated Gas Lines

• RF Plasma Source with Auto Tuner

• Shower Head Gas Distribution

• 1100 °C Platen， Rotating

• N₂ Flush

• Automatic wafer Loading and Unloading

• Compatible with Cluster