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EZ Imprinting推出了一款臺式獨立納米壓印系統:PL系列400/600.
EZImprinting是一種超高產率(> 99%)納米壓印光刻系統,帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。
EZI UV Nanoimprint System PL400
特點:
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率,產率高達99%
? 一步自動釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產量**化
? 支持各種類型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸,靈活方便
? 可編程PLC,通過自定義參數進行過程控制,帶觸摸屏用戶界面
? 對準功能選項
? 多種工藝,適用于各種應用光學器件,顯示器,數據存儲,生物醫學器件,半導體IC,化學合成和先進材料等
? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統的光刻工藝兼容
EZ Imprinting處理器參數:
基材尺寸: 4“標準(尺寸較小,形狀不規則)
印記區 : 與晶圓尺寸相同。
模板尺寸 4”,2” and 1”