粉體行業在線展覽
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沈陽科晶自動化設備有限公司
遼寧
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產品簡介：高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。
產品型號 | GSL-CKJS-560-B2磁控濺射 | ||
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備氮/氬氣氣瓶（自帶?10mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、場地：設備尺寸3500×1600mm，承重1000kg以上 5、通風裝置：需要 | ||
主要特點 | 1、真空度高。 2、可制備多種薄膜，金屬、半導體、絕緣體等，應用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 4、清理安裝便捷。 5、控制可選一體化觸摸屏控制 | ||
技術參數 | 1、主濺射室尺寸：?560×355mm梨形真空室 2、主濺射室真空度：5×10-6Pa 3、進樣室尺寸: ?255×430mm 4、進樣室真空度：5×10-4Pa 5、永磁靶5套，靶材尺寸φ2″，各靶射頻與直流濺射兼容（其中1個靶可濺射鐵磁材料） 6、公轉樣品臺6個工位，5個水冷工位，1個加熱工位，加熱工位**溫度600℃±1℃ 7、樣品尺寸：φ1″，可放置6片 8、基片可加-200V負偏壓 9、進樣室可一次性安裝6片樣品，可對被鍍樣品進行退火處理，退火溫度800℃±1℃ 10、進樣室可對基片進行反濺清洗 11、進樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機構進行樣品傳遞 | ||
產品規格 | 整機尺寸：2700×900mm×2000mm； | ||
標準配件 | 1 | 電源控制系統 | 1套 |
2 | 真空獲得系統 | 1套 | |
3 | 真空測量裝置 | 1套 | |
