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芬蘭PICOSUN生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)P-1000 Pro ALD

技術(shù)參數(shù)：

襯底尺寸和類型

。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（雙面/背對(duì)背）

。高達(dá)400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（雙面/背對(duì)背）

。大批量的3D產(chǎn)品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫(yī)療植入部件，機(jī)械部件等）

。多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品

工藝溫度： 50 - 500 °C

基片傳送選件：

。氣動(dòng)升降（手動(dòng)裝載，帶叉車forklift cart）

。全自動(dòng)轉(zhuǎn)載，用工業(yè)機(jī)器人實(shí)現(xiàn)

前驅(qū)體：

。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源

。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)

。8根獨(dú)立源管線，*多加載12個(gè)前驅(qū)體源

重量： 2000 kg

尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm

選件： PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計(jì)，與工廠軟件連接服務(wù)。

驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)： 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝