粉體行業(yè)在線展覽
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直接聯(lián)系
北京飛斯科科技有限公司
美國
面議
750
儀器簡介 美國 IRlabs公司提供高效液氮紅外杜瓦（77K-50K）和液氦紅外杜瓦（4.2K-1.6K），標準開環(huán)式紅外杜瓦提供冷板直徑從從3”到14”（7cm到35cm），制冷劑利用率高，保持時間長。獨特的設計使得系統(tǒng)具有更大靈活性適合多種應用和測試。
標準配置
開放式液氮/液氦式紅外杜瓦、抽真空閥、制冷劑灌裝管道、泵抽端口（可用來泵抽減小制冷劑蒸氣壓從而獲得更低溫度）。
開環(huán)式紅外杜瓦包括HDL系列、HDV系列和ND系列，其基本參數(shù)如下：
| 型號 | 液氦（HDL） | 液氦（HDV） | 液氮（ND） |
| 工作溫度（K）（1ATM） | 4.2 | 4.2 | 77 |
| 工作溫度（K）（<1ATM）(標準配置) | 1.6 | 1.8 | 63 |
| 工作溫度(K)(<1ATM)(低溫配置) | 1.2* | - | 50 |
| 冷板直徑 | 5，8，10，12，14 | 3.5，8，10，12，14 | 3，5，8，10，12，14 |
| 蒸汽冷卻防熱輻射屏 | - | 是 | 是 |
| 液體冷卻防熱輻射屏 | Yes | - | - |
*HDL-5和定制杜瓦
HDL系列紅外杜瓦 HDL系列液氦紅外杜瓦有兩個制冷劑儲槽，一個是液氮儲槽用來冷卻防熱輻射屏，一個是液氦儲槽冷卻工作面，所有儲槽的外表面纏繞多層金屬箔增加防熱輻射能力。標準工作面直徑有5，8，10，12和14英寸等，可提供矩形工作面或根據(jù)要求進行設計。
應用
HDL系統(tǒng)紅外杜瓦經(jīng)常用于中紅外、遠紅外探測器以及成像系統(tǒng)中，如Bolometers，Photo探測器和InSb探測器等，也可應用于材料測試、電子元器件測試和獨立系統(tǒng)的冷卻等。
特點
工作溫度范圍： 2K到4.2K
液氮冷卻防熱輻射屏
多層薄鋁箔防熱輻射屏
可完全定制配置
參數(shù)和技術(shù)規(guī)格
| 單位（英寸） | HDL-5 | HDL-8 | HDL-10 | HDL-12 | HDL-14 |
| 杜瓦外部直徑 | 6.95 | 9.95 | 11.95 | 13.70 | 15.95 |
| 杜瓦高度 | 12.50 | 12.31 | 13.50 | 13.75 | 13.75 |
| 冷板直徑 | 5.12 | 8.12 | 10.18 | 12.00 | 14.18 |
| 工作面高度("B"尺寸) | 1.50 | 1.50 | 2.00 | 2.00 | 2.00 |
| 重量（無制冷劑時）(lbs) | 15.75 | 26.00 | 42.00 | 54.00 | 68.00 |
| 液氮容量(L) | 0.8 | 2.3 | 4.2 | 6.1 | 8.4 |
| 液氮保持時間 (標準支撐) (hrs) | 30 | 30 | 35 | -- | -- |
| 液氮保持時間 (剛性支撐) (hrs) | 20 | 27 | 32 | 48 | 60 |
| 液氦容量 | 1.2 | 2.6 | 4.4 | 6.6 | 8.7 |
| 液氦保持時間（標準支撐）(hrs) | 90 | 100 | 135 | -- | -- |
| 液氦保持時間 (剛性支撐) (hrs) | 25 | 30 | 47 | 55 | 78 |
HDV系列紅外杜瓦 HDV系列液氦紅外杜瓦只有一個制冷劑儲槽，蒸氣冷卻的防熱輻射屏在儲槽和低溫工作面四周。在儲槽的外表面安裝多層薄鋁箔增加防熱輻射能力。標準工作面直徑有3，5，8，10，12和14英寸等，可提供更大尺寸或矩形工作面或根據(jù)要求進行設計。
應用
HDV系統(tǒng)經(jīng)常用于中紅外、遠紅外探測器以及成像系統(tǒng)中，如Bolometers，HgCdTe 探測器和InSb探測器等，也可應用于材料測試、電子元器件測試和獨立系統(tǒng)的冷卻等。
特點
工作溫度范圍： 1.8K到4.2K
蒸氣冷卻防熱輻射屏
多層薄鋁箔防熱輻射屏
可完全定制配置
參數(shù)和技術(shù)規(guī)格
| Inches | HDV-3 | HDV-5 | HDV-8 | HDV-10 | HDV-12 | HDV-14 |
| 杜瓦外部直徑（in） | 4.95 | 6.95 | 9.95 | 11.95 | 13.70 | 15.95 |
| 杜瓦高度 | 11.38 | 11.00 | 10.16 | 11.00 | 11.25 | 11.25 |
| 冷板直徑 | 3.12 | 5.12 | 8.12 | 10.18 | 12.00 | 14.18 |
| 工作面高度("B"尺寸) | 1.50 | 1.50 | 1.50 | 2.00 | 2.00 | 2.00 |
| 重量（無制冷劑時）(lbs) | 7.50 | 10.75 | 22.00 | 36.00 | 48.00 | 61.00 |
| 液氮/液氦容量 (l) | 0.5 | 1.2 | 2.6 | 4.4 | 6.4 | 8.7 |
| 液氮/液氦保持時間(標準支撐) (hrs) | 24/6 | 72/18 | 90/24 | 115/30 | -- | -- |
| 液氮/液氦保持時間(剛性支撐) (hrs) | -- | 70/6 | 80/10 | 106/12 | 120/14 | 143/16 |
ND 系列液氮紅外杜瓦
ND液氮紅外杜瓦有一個液氮儲槽，蒸氣冷卻防熱輻射屏環(huán)繞著儲槽和低溫工作面的四周。安裝在低溫工作面的分子篩吸氣劑提高杜瓦真空度。標準工作面直徑有3，5，8，10，12和14英寸等，可提供更大尺寸或矩形工作面，也可根據(jù)要求進行設計。
應用 ND系統(tǒng)經(jīng)常用在近紅外探測器和成像系統(tǒng)中，如CCD，HgCdTe探測器和InSb探測器等，也可應用于材料測試、電子元器件測試等領域。
特點
工作溫度范圍：50K到77K
蒸氣冷卻防熱輻射屏
分子篩吸氣劑
可根據(jù)要求定制
參數(shù)和技術(shù)規(guī)格
| 英寸 | ND-3 | ND-5 | ND-8 | ND-10 | ND-12 | ND-14 |
| 杜瓦外部直徑r(in) | 4.95 | 6.95 | 9.95 | 11.95 | 13.70 | 15.95 |
| 杜瓦高度 | 11.38 | 11.00 | 10.16 | 11.00 | 11.25 | 11.25 |
| 冷板直徑 | 3.12 | 5.12 | 8.12 | 10.18 | 12.00 | 14.18 |
| 工作面高度 ("B"尺寸) | 1.50 | 1.50 | 1.50 | 2.00 | 2.00 | 2.00 |
| 重量（無制冷劑時）(lbs) | 7.50 | 10.75 | 22.00 | 36.00 | 48.00 | 61.00 |
| LN2/LHe容量 (l) | 0.5 | 1.2 | 2.6 | 4.4 | 6.4 | 8.7 |
| LN2/LHE 保持時間 (標準支撐) (hrs) | 24/6 | 72/18 | 90/24 | 115/30 | -- | -- |
| LN2/LHE 保持時間(剛性支撐) (hrs) | -- | 70/6 | 80/10 | 106/12 | 120/14 | 143/16 |
電腦組合體系VG42
分析天平
UNI800C多物料配料控制儀
在線HPXRF檢測設備
PicoFemto掃描電鏡原位液體-電化學測量系統(tǒng)
金屬稱重檢測一體機
BSD-PB(氣液法)
在體皮膚拉曼分析儀
片式電容四參數(shù)測試機
0～10%糖度
三路浮子流量計 MFC-3F
