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德國Raith高分辨電子束曝光機150 Two

詳細介紹

Raith 150 Two作為高分辨電子束曝光系統，自推出以來全球銷量不容忽視。該系統被廣泛地用于研發和納米技術中心，已證明了系統的24/7使用的穩定性。

Raith 150 Two 可實現亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。

環境屏蔽罩保證了系統的熱穩定性，提高設備對實驗室環境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環境下，也能保證系統的正常穩定運行。

超高分辨曝光及成像

小于8nm曝光

低電壓曝光及成像

系統自動化程度高

**可處理8"樣片

隔墻安裝 / 熱穩定性

研發及小批量生產

軟硬件的高自動化程度保障了小批量生產中進行簡單且可重復性的曝光工作。

Raith 150 Two 高分辨的電子光學柱結合多種探測器可實現對準標記識別和過程控制中****的靈活性。

Raith 150 Two 應用

· 75nmT型柵高電子遷移率晶體管器件

· HSQ膠上制作亞4.5nm線條

· 采用traxx長線條無寫場拼接曝光模式制作延遲波導結構

· 5um厚膠上制作三維菲涅爾透鏡陣列結構

· PMMA膠上制作精細的11nm線條

· PMMA膠上制作60nm周期光柵結構

RAITH150 Two 產品詳情

主要應用:

。納米級光刻

。高分辨成像

。低電壓電子束光刻

樣品臺:

。完整的6“ 移動范圍

。Z軸移動范圍大

電子槍技術:

。Gemini

。電子

。30 kV

。Inlense二次電子探測器

。能量選擇背散射二次電子探測器（選配）

獨特直寫模式:

。traxx長線條無寫場拼接曝光模式

。periodixx周期結構無寫場拼接曝光模式