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日本JEOL電子束光刻機JBX-9500FS　

JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統，兼具世界**水平的產出量和定位精度，**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發及生產。

產品規格：

產品特點：

· JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統，兼具世界**水平的產出量和定位精度，**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發及生產。

· 此外，由于具有100MHz的*快掃描速度，場尺寸在1000μm×1000μm時的套刻精度達到±11nm、場拼接精度為±10nm、寫場內位置精度達±9nm，是兼具世界**水準產出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統。

· 由于采用的位置偏轉DAC為20位，掃描DAC為14位，能獲得0.25nm的掃描步距，分辨率更高，描畫數據增長1nm，可以更忠實地再現描畫數據。

· *快達到100ＭＨｚ的高速化掃描速度，保證了大電流描畫時的掃描步距很短，因而能提高對精度要求極高的圖形描畫的產出量。

· 由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的*小定位單位及高分辨率，達到了世界**水準的位置精度。

· 本公司獨自的自動校正功能(自動補償功能)，實現了可信賴的長時間穩定地描畫。自動補償可以根據時間（任意的）、場和圖形進行分別設定，非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時間描畫。

· 該系統**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版，適合于納米壓印、光子器件、通信設備等各種領域的研發及生產。采用材料卡匣傳送系統（選配），*多可裝載10個卡匣。

· 利用微間距控制程序（場尺寸微調程序）可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。