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Janis SHI-4系列4K制冷機(jī)種類齊全，可配置各種光學(xué)附件和電學(xué)接頭，滿足不同實驗對樣品冷卻的要求。真空罩底部有螺紋孔，匹配安裝法蘭，可方便地將恒溫器固定在任意方向。標(biāo)準(zhǔn)配置的制冷機(jī)系統(tǒng)高溫可到325K，可選配高溫到500K或800K。

標(biāo)準(zhǔn)型號("X"表示制冷機(jī)的制冷功率)：

¨ SHI-4-X (光學(xué))

¨SHI-4T-X (非光學(xué))

¨SHI-4S-X (超級緊湊)

¨SHI-4XG-X (低振動)

¨SHI-4H-X (高溫)

SHI-4-X制冷機(jī)技術(shù)參數(shù)（含輻射熱負(fù)載）：

標(biāo)準(zhǔn)配置的4K制冷機(jī)

SHI-4-2 SHI-4-4 SHI-4-5

SHI-4 SHI-4R SHI-4-15

其它結(jié)構(gòu)

● 樣品垂直/水平雙向旋轉(zhuǎn)的制冷機(jī)：

Janis可提供沿垂直或水平方向旋轉(zhuǎn)的樣品托。沿恒溫器軸向可進(jìn)行±360°旋轉(zhuǎn)，僅受氦氣管線和電纜的限制，精度約0.5°；沿水平方向可進(jìn)行±90°旋轉(zhuǎn)，精度<0.2°。系統(tǒng)配有四個冷窗，*低溫度可達(dá)~4K，是需要對樣品進(jìn)行精確光學(xué)準(zhǔn)直實驗的理想選擇。

●SHI-4-15-UHV系統(tǒng)：

圖示為RDK-415D2B冷頭，配有固定的8”CF法蘭，二級冷臺上裝有溫度傳感器和兩個筒狀加熱器。該系統(tǒng)為高真空環(huán)境而設(shè)計，可直接固定在用戶提供的UHV腔上，但并非真正的UHV系統(tǒng)，其烘烤溫度只能達(dá)到60℃。

●特殊型SHI-4XG-15-UHV系統(tǒng)：

SHI-4XG-15-UHV系統(tǒng)為真正的超高真空（UHV）系統(tǒng)，在交換氣體減振的情況下可烘烤至500K，可用于掃描探針顯微鏡測試。該系統(tǒng)配有特殊的防熱輻射冷窗，*低溫度可達(dá)3K。

●特殊型1.5W制冷機(jī)系統(tǒng)用于冷卻氫氣：

SHI-4-15制冷機(jī)，配有CF法蘭，一級冷臺和二級冷臺上分別裝有熱交換器用于冷卻氫氣。該系統(tǒng)將直接安裝在用戶已有的真空腔上，與氫氣入口和出口管線相連。

●高溫型4K制冷機(jī)：

該系統(tǒng)高溫可達(dá)500K，采用RDK-101D冷頭。

●帶冷窗的4K制冷機(jī)：

配有光學(xué)冷窗的情況下，制冷功率為1.5W@4.2K的制冷機(jī)系統(tǒng)*低溫度可達(dá)3K。

●SHI-4R-1基質(zhì)隔離系統(tǒng)：