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四方儀器原位激光過程氣體分析儀（單端式）

GasTDL-3100-

直接聯(lián)系

四方光電（武漢）儀器有限公司

湖北武漢

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

參考報(bào)價(jià)：

面議

品牌：

四方儀器

型號(hào)：

GasTDL-3100-

關(guān)注度：

482

樣本：

創(chuàng)新點(diǎn)：

采用TDLAS技術(shù)，被測(cè)氣體不受背景氣體交叉干擾
單端開孔，無需對(duì)光；直插式設(shè)計(jì)，極大簡化了安裝調(diào)試
無需采樣預(yù)處理系統(tǒng)，實(shí)時(shí)快速測(cè)量

產(chǎn)品介紹

原位激光過程氣體分析儀（單端式）產(chǎn)品介紹

GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)（TDLAS）的高性能光學(xué)分析儀器，無需采樣預(yù)處理系統(tǒng)，能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環(huán)境下進(jìn)行原位氣體濃度測(cè)量。

原位激光過程氣體分析儀（單端式）產(chǎn)品特性

采用TDLAS技術(shù)，被測(cè)氣體不受背景氣體交叉干擾

單端開孔，無需對(duì)光；直插式設(shè)計(jì)，極大簡化了安裝調(diào)試

無需采樣預(yù)處理系統(tǒng)，實(shí)時(shí)快速測(cè)量

內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)氣體參比模塊，動(dòng)態(tài)補(bǔ)償，實(shí)時(shí)鎖住吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響

可用于惡劣工業(yè)環(huán)境中，抗化學(xué)腐蝕、高粉塵、高水分

原位激光過程氣體分析儀（單端式）技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品咨詢

四方儀器原位激光過程氣體分析儀（單端式）

GasTDL-3100-

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