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新型的全自動薄膜測量分析工具，工業化設計，操作簡單，可在幾秒鐘內完成全自動測量和分析，并輸出分析報告。是用于快速薄膜測量和器件質量控制理想的解決方案。

技術參數：

·光譜范圍：450-1000 nm

·多種微光斑自動選擇

·**光斑可視技術，可觀測任何樣品表面

·CCD探測器

·自動樣品臺尺寸：200mmX200mm；XYZ方向自動調節; Z軸高度>35mm

·70度角入射

主要特點：

·完全自動化設計，一鍵式操作，直接報告輸出

·液晶調制技術，測量光路中無運動部件

·CCD探測系統，快速全譜輸出

·多個微光斑尺寸選擇，**可視技術

·封閉式樣品倉