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AR-Meta 超表面光場檢測系統 采用 消除像差 的光學設計,以商用設備實現 μm 量級超表面器件的原位、寬譜段的透 / 反射光場測量,并提供焦距、成像分辨率、點擴散函數、調制傳遞函數、斯特列爾比、數值孔徑、偏折效率等關鍵測量指標分析。結合豐富的偏振器件,為您帶來一款“專業化”的超表面與超透鏡光場檢測平臺。
超表面器件 超表面器件在空間上具有復雜的光場調控能力,需要在微米尺度下掃描光場。
超透鏡 受限于設計規模和微納加工能力,超透鏡難以實現較大口徑。面向折射型透鏡的傳統檢測工具已無法滿足該類器件的光學性質表征需求,針對超透鏡特點設計的檢測平臺應運而生。
微透鏡 口徑在數百微米以下的微透鏡及陣列,在集成光學中已開始發揮重要作用,受限于透鏡口徑,當前缺乏商用化的微透鏡光學指標檢測平臺。
注:以上參數如有差異,以官網為準。