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面議
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隨著成像技術(shù)的發(fā)展,在中心實(shí)驗(yàn)室,越來越多的科研工作者們提出對超高分辨率成像的需求,為了應(yīng)對不同應(yīng)用對于分辨率、速度和圖像質(zhì)量的多種需求,X-Light V2+VCS轉(zhuǎn)盤共聚焦可以在寬場熒光、共聚焦、寬場超高分辨率和視頻級共聚焦超高分辨率多種模式之間快速電動(dòng)切換。在您可承受的預(yù)算之內(nèi),即可滿足超高分辨率成像的需求,同時(shí)配備各種自動(dòng)化部件,高功率激光,大視場sCMOS相機(jī),熱切換轉(zhuǎn)盤,任意轉(zhuǎn)換不同針孔大小或排列轉(zhuǎn)盤,雙模式的結(jié)構(gòu)照明網(wǎng)格,整套系統(tǒng)工作穩(wěn)定,易于維護(hù)易操作。
結(jié)構(gòu)照明超高分辨率模塊隨時(shí)可升級
˙獨(dú)特的寬場超高分辨和視頻級共聚焦超高分辨率(VCS ) 模式
˙在寬場模式和共聚焦模式下都可以實(shí)現(xiàn)超高分辨率成像,通過電動(dòng)的VCS格柵的移動(dòng)可以快速切換。**的結(jié)構(gòu)照明可以獲得橫向分辨率120nm的圖片。結(jié)構(gòu)照明透過獨(dú)特針孔矩陣投影到樣品焦平面上,然后以壓電馬達(dá)快速全像素點(diǎn)掃描,對每個(gè)像素點(diǎn)隨之產(chǎn)生的光強(qiáng)度變化收集數(shù)據(jù)。檢測方法利用非線性計(jì)算,收集和探測頂部的強(qiáng)照明的函數(shù)以及位置參數(shù),更多的采用頂部原始強(qiáng)信號的位置而不是外圍弱光的位置,產(chǎn)生**的高對比度。對焦信息對于大多數(shù)弱光的位置未被VCS照明模式膜距陣照亮,從而產(chǎn)生更激烈的傾斜光亮度直方圖,實(shí)現(xiàn)超分辨率信號。
**圖像質(zhì)量保障,沒有樣品處理及熒光染料限制,快速超高分辨率采圖
˙獨(dú)特的結(jié)構(gòu)照明技術(shù)可以應(yīng)用于所有熒光染色樣本,在樣本制備和熒光染料選擇上無特殊要求,對顯微鏡浸油和樣本的封片/浸潤介質(zhì)的折射率匹配不敏感,可長時(shí)間觀察,每個(gè)獲取圖像只是局部照明避免熒光漂白,*終采圖只需激發(fā)光曝光整個(gè)視野僅僅一次,無懼光漂白,可以輕松的從共聚焦成像切換到多色超高分辨率成像,針對可見光全光譜的無像差光學(xué)校正系統(tǒng)保證您獲得*真實(shí)的圖像
˙沒有圖像缺陷,圖像超高質(zhì)量保證,效果明顯,保證產(chǎn)出和****
˙不會(huì)浪費(fèi)珍貴樣品,也沒有浪費(fèi)珍貴人力在困難的樣品制備中,但到頭來不能獲得良好的圖像質(zhì)量和實(shí)驗(yàn)結(jié)果
˙高清晰度圖像豐富細(xì)節(jié)找到你須要的所有信息使用在發(fā)表文章和演示,準(zhǔn)確結(jié)構(gòu)共定位判定
˙高質(zhì)量的圖像發(fā)表高水平論文
˙快速獲得結(jié)果,所以速度更快發(fā)表論文
控制軟件 | MetaMorph, NIS Elements |
VCS | 搭配X-Light V2 使用,可后期升級 |
VCS 針孔 | 兩種模式: 13微米方形孔徑 - 78 微米步進(jìn);13微米狹縫-78微米步進(jìn);壓電馬達(dá)速度結(jié)構(gòu)照明掃描 |
電動(dòng)針孔聚焦,穩(wěn)定的XY軸校準(zhǔn) | |
VCS 分辨率 | 橫向120nm ,縱向300nm ; 精準(zhǔn)的多波長色差校正,適應(yīng)多色成像 |
支持的顯微鏡 | 配備100% C接口的各品牌正置和倒置顯微鏡 |
需要平場復(fù)消色差物鏡 | |
相機(jī) | 支持C接口的高靈敏度sCMOS和EMCCD |
內(nèi)置光學(xué)完成相機(jī)聚焦, 無需移動(dòng)相機(jī)或轉(zhuǎn)盤 | |
顯卡要求 | GPU顯卡/CUDA規(guī)格: 5.0/5.2版本& GPU顯存: 4 GB或以上 |
TH-F120
BL-GHX-VK
線性壓電納米位移臺MF40-25A
A500
ParticleX TC
觀世
SuperSEM N10
在線濁度計(jì)
SLS-LED-80B
SCI300
ZEUS