粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
直接聯系
北京眾星聯恒科技有限公司
日本
面議
900
NTT-AT公司已提供了20 多年高質量XUV、EUV和X射線反射鏡。尤其是利用本公司的豐富經驗和出色技能，提供可定制設計的多層膜反射鏡，滿足各用戶的需求。
1990年，NTT-AT公司開發了極紫外（XUV或EUV）多層反射鏡和X射線反射鏡并開始銷售。并將亞洲、北美洲、南美洲和歐洲的大學、研究所和企業反饋的意見反映到這些反射鏡的設計中。本公司將利用廣泛積累的經驗和可靠的技術支持用戶的多層反射鏡生產。
因為NTT-AT公司的多層反射鏡質量高，所以一直被世界上的研究機構所選用。本公司定制多層材料和結構，滿足用戶的基板、峰值波長、帶寬和分散體等詳細規格。還應對耐高溫多層反射鏡。利用同步加速器設備的反射率評估服務也可作為選項提供。
同時也為包括EUV光刻的EUV工業應用提供成本低、交付周期短、質量穩定的多層反射鏡。作為用戶的研發伙伴，支持用戶的EUVL光源開發、EUV光刻膠開發、EUV掩模檢查和其它周邊領域的實際利用。
基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環面、橢圓面基板材料：石英、硅、zero dewer等
多層膜材料：Mo/Si、Ru/Si、Zr/Al、SiC/Mg、Cr/C等
基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米
NTT-AT公司將提供高耐用性XUV多層反射鏡、耐高溫XUV多層膜反射鏡以及施瓦茲希爾德光學系統和泵浦探測光學系統等光學系統。
基板形狀：平面、橢圓面、拋物面、柱面、超環面
基板：石英、硅、zero dewer等
基板材料：W/B4C、W/C、Pt/C等
基板尺寸：**500毫米
NTT-AT公司提供K-B反射鏡系統、沃爾特反射鏡等
基板形狀：平面、橢圓面、拋物面、柱面、超環面基板材料：石英、硅、zero dewer等
多層材料：C、B4C、SiC、Ru、NbN、Pt等
基板尺寸：**500毫米
NTT-AT公司提供K-B反射鏡系統、沃爾特反射鏡等
本公司定制多層材料和結構，滿足用戶的基板、峰值波長、帶寬和分散體等詳細規格。還應對耐高溫多層反射鏡。利用同步加速器設備的反射率評估服務也可作為選項提供。世界上只有為數不多的公司生產和銷售EUV反射鏡。如果您不滿意現在的供應商，NTT-AT公司能夠制造滿足您嚴格要求的定制設計反射鏡。NTT-AT公司將推薦正確反映用戶規格的**設計。
| 應用示例 | 基板材料 | 典型波長 | ||
|---|---|---|---|---|
| XUV（EUV） 反射鏡 | EUV光刻 高階諧波應用 阿秒科學 X射線激光器 | 多層反射鏡 | Mp/Si Ru/Si Zr/Al SiC/Mg Cr/C | 50電子伏至100電子伏 50電子伏至100電子伏 50電子伏至70電子伏 25電子伏至50電子伏 至300電子伏 |
| 單層反射鏡 | SiC Pt Ru | 10電子伏至100電子伏 | ||
| X射線反射鏡 | 同步加速器應用 XFEL應用 內置X射線無損 檢查設備 | 多層反射鏡 | W/C W/B4C Ru/C Pt/C | 1k電子伏至30k電子伏 |
| 單層反射鏡 | C B4C SiC Cr Ni | 1k電子伏至30k電子伏 |
NTT-AT公司已支持了許多同步加速器輻射應用、XFEL應用、包括阿秒科學和材料科學的高階諧波應用、軟X射線激光應用和天文學的實驗和研究。NTT-AT公司的XUV多層反射鏡的****的質量受到學術界的好評。
Φ10毫米平面反射鏡 | 測量的Mo/Si多層的反射率 （正入射角：2度） |
用于泵浦探測試驗的多層反射鏡 | 測量寬帶反射鏡、 窄帶反射鏡（波長：30納米）的反射率 |
EUV寬帶橢圓面反射鏡 （Φ100毫米zero dewer） | Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多層反射鏡具有高達70％的正入射反射率。 NTT-AT的XUV反射鏡的材料、膜結構和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。 |
用于K-B反射鏡系統的多層反射鏡 | W/B4C多層和W/C多層膜反射鏡對硬X射線應用具有高反射率。為了有效反射和聚集硬X射線，必須**限度地縮小入射角的斜角。這需要較長的反射鏡長度和較小的多層膜周長。 |
評估的反射率 （波長：0.154納米，藍色：測量的反射率，粉紅色；計算的反射率，周期長度： 2.95納米） | NTT-AT公司的X射線反射鏡的材料、膜結構和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長、帶寬和光學裝置的需求。 |
帶釕層的橢圓面反射鏡 | 利用全反射的單層反射鏡用于波束控制、光聚合和去除XUV至X射線范圍內的無需波長。 NTT-AT公司的單層反射鏡的材料和基板形狀可以定制以滿足用戶有關中心波長和光學裝置的需求。 |
