粉體行業在線展覽
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柜谷科技發展（上海）有限公司
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產品簡介
高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像
HAADF-STEM圖像0.136nm，FFT圖像0.105nm（高分辨率鏡頭（*））
HAADF-STEM圖像0.144nm（標準鏡頭）
明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204nm（w/o球差校正儀）
高速，高靈敏度能譜分析：探針電流×10倍
元素面分布更迅速及時
低濃度元素檢測
操作簡化
自動圖像對中功能
從樣品制備到觀察分析實現無縫連接
樣品桿與日立聚焦離子束系統兼容
配有各種選購件可執行各種評估和分析操作
同時獲取和顯示SE&BF， SE&DF， BF&DF， DF/EDX面分布（*） 和DF/EELS面分布（*）圖像。
低劑量功能（*）（使樣品的損傷和污染程度降至*低）
高精度放大校準和測量（*）
實時衍射單元（*）（同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案）
采用三維微型柱旋轉樣品桿（360度旋轉）（*），具有自動傾斜圖像獲取功能。
ELV-3000即時元素面分布系統（*）（同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像）
（*） 選購件
HD-2700球差校正掃描式透射電子顯微鏡
項目 | 描述 | |
| 圖像分辨率 | w/o球差校正儀 | 保證 0.204nm（當放大倍數為4，000，000時） |
| w球差校正儀 | 保證 0.144 nm（當放大倍數為7，000，000時）（標準鏡頭） | |
| 保證 0.136nm（HAADF圖像） 保證0.105 nm（通過FFT）（當放大倍數為7，000，000時）（高分辨率鏡頭（*）） | ||
| 放大倍數 | 100倍 至 10，000，000倍 | |
| 加速電壓 | 200 kV， 120 kV （*） | |
| 成像信號 | 明場掃描透射電子顯微鏡：相襯圖像（TE圖像） 暗場掃描透射電子顯微鏡：原子序數襯度圖像（Z襯度圖像） 二次電子圖像（SE圖像） 電子衍射（*） 特征X射線分析和面分布（能譜分析）（*） 電子能量損失譜分析和面分布（EV3000）（*） | |
| 電子光學系統 | 電子源 | 肖特基發射電子源 |
| 冷場致發射器（*） | ||
| 照明透鏡系統 | 2-段聚光鏡鏡頭 | |
| 球差校正儀（*） | 六極鏡頭設計 | |
| 掃描線圈 | 2-段式電磁感應線圈 | |
| 原子序數襯度收集角控制 | 投影鏡設計 | |
| 電磁圖像位移 | ±1 μm | |
| 試片鏡臺 | 樣品移動 | X/Y軸 = ±1 mm， Z軸 = ±0.4 mm |
| 樣品傾斜 | 單軸-傾斜樣品桿：±30°（標準鏡頭）， ±18°（高分辨率鏡頭（*）） | |
| 真空系統 | 3個離子泵，1個TMP | |
| 極限真空 | 10-8 Pa（電子槍）， 10-5 Pa（樣品室） | |
| 圖像顯示 | 個人電腦／操作系統 | PC/AT兼容， Windows® XP |
| 監視器 | 19-inch液晶顯示器面板 | |
| 圖像幀尺寸 | 640 × 480， 1，280 × 960， 2，560 × 1，920 象素 | |
| 掃描速度 | 快掃，慢掃（0.5至320秒／幀） | |
| 自動數據顯示 | 記錄序號，加速電壓，下標尺，日期，時間 | |
（*） 選購件
